2024知到答案微纳加工技术完整智慧树网课章节测试答案

绪论单元测试

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1、单选题：
微纳加工是以平面集成加工为代表的非传统的加工方法，加工形成的部件或结构本身的尺寸在（）量级。
选项：
A:纳米
B:微米或纳米
C:微米
答案: 【微米或纳米】

2、多选题：
光刻工艺的基本要素主要包括（）。
选项：
A:对准系统
B:光刻胶
C:光源
答案: 【对准系统;
光刻胶;
光源】

3、单选题：
刻蚀法图形转移技术的关键刻蚀参数：（）。
选项：
A:刻蚀的方向性
B:掩膜的抗刻蚀比和刻蚀的方向性
C:掩膜的抗刻蚀比
答案: 【掩膜的抗刻蚀比和刻蚀的方向性】

4、判断题：
间接加工技术能够绕过现有设备加工能力极限，意指直接光刻技术，其图形结构的分辨率决定于某种光刻方法的分辨率。（）
选项：
A:对
B:错
答案: 【错】

5、判断题：
间接加工技术就是光刻加图形转移技术。（）
选项：
A:错
B:对
答案: 【错】

1、单选题：
光学曝光的目的是把掩模上的图形成像到（）上。
选项：
A:底片
B:Si片
C:光刻胶
答案: 【光刻胶】

2、单选题：
软接触通过调整（）实现。
选项：
A:掩膜厚度
B:压力大小
C:曝光强度
答案: 【压力大小】

3、多选题：
接触式曝光分为（）。
选项：
A:软接触
B:硬接触
C:无压接触
答案: 【软接触 ;
硬接触】

4、判断题：
分辨率就是能够清晰分辨出间隔很近的特征图形的能力。（）
选项：
A:对
B:错
答案: 【对】

5、判断题：
正胶在感光时，使聚合物发生交联。（）
选项：
A:对
B:错
答案: 【错】

1、单选题：
先进的电子束曝光机主要适用于（）以下的超微细加工。
选项：
A:0.5毫米
B:0.5纳米
C:0.5微米
答案: 【0.5微米】

2、单选题：
电子束曝光的曝光效率（）光学曝光。
选项：
A:近似于
B:远大于
C:远小于
答案: 【远小于】

3、判断题：
电子枪包括发射电子的阴极和对发射电子聚束的电子透镜。（）
选项：
A:错
B:对
答案: 【对】

4、判断题：
光栅扫描是对整个曝光场扫描，但电子束曝光快门只在曝光图形部分打开。（）
选项：
A:错
B:对
答案: 【对】

5、多选题：
曝光平面电子束斑包含各种像差，（）为主要像差。
选项：
A:像散
B:球差
C:色差
答案: 【球差;
色差】